Samsung Electronics akan mengadopsi teknologi generasi mendatang malalui penggunaan peralatan litografi "extreme ultraviolet (EUV)" untuk memproduksi memori tahun depan dengan menerapkan proses ultrafine 10-nano. Ini adalah usaha pertama yang menerapkan litografi EUV, yang saat ini sedang diteliti dan dikembangkan, dalam produksi sebenarnya.
Menurut sebuah sumber industri di Korea pada 26 Juli kemarin, Samsung Electronics telah mengeluarkan perintah pembelian (purchase order/PO) untuk sebuah perusahaan Belanda "ASML" untuk membeli litografi EUV 300㎜.
Perintah pembelian ini perlu dicatat karena litografi EUV belum diterapkan dalam produksi sebenarnya di seluruh dunia. Secara khusus, proses pembelian litografi EUV berbeda dari pembelian peralatan lainnya, karena litografi EUV sebenarnya adalah inti dari peralatan fabrikasi.
Jika ASML mengembangkan peralatan tanpa penundaan dan Samsung Electronics mengadopsi peralatan EUV menurut jadwal mereka, era semikonduktor memori 10-nano akan dimulai tahun depan. Peralatan EUV akan diterapkan ke memori mobile berjenis NAND Flash dan diantisipasi untuk diadopsi untuk produk DRAM dari Samsung di masa depan.
Untuk menggunakan litografi EUV dalam produksi yang sebenarnya, harus mampu menangani lebih dari 60 wafer per jam. Ini merupakan tantangan yang harus diatasi ASML dalam mengembangkan litografi EUV.
Tidak ada komentar:
Posting Komentar